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Resina de Troca Iônica de Leito Misto AmberTec™ UP6040 H/OH para Água Ultrapura com Resistividade de 18 MΩ*cm e Baixa Contribuição de TOC
Detalhes do produto:
| Lugar de origem: | China |
| Marca: | Dupont |
| Certificação: | ISO 9001 |
| Número do modelo: | DuPont ™ Ambertec ™ UP6040 H/OH |
Condições de Pagamento e Envio:
| Quantidade de ordem mínima: | 1 conjunto |
|---|---|
| Preço: | negociável |
| Detalhes da embalagem: | Caixa/caixa de madeira de exportação padrão ou nua embrulhada em filme |
| Tempo de entrega: | 7 dias úteis |
| Termos de pagamento: | T/T, Western Union, PayPal etc. |
| Habilidade da fonte: | 60000 unidades por mês |
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Informação detalhada |
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| Copolimero: | Estireno-divinilbenzeno | Matriz: | Gel |
|---|---|---|---|
| Tipo: | Cátion ácido forte | Grupo Funcional: | Ácido sulfónico |
| Forma física: | Contas esféricas âmbar escuras, translúcidas | ||
| Destacar: | Resina de troca iônica de cama misturada de resistividade de 18 MΩ*cm,Resina de polimento de água ultrapura com baixa contribuição de TOC,Resina catiônica de ácido forte H/OH resina de troca iônica |
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Descrição de produto
OAmberTecTM UP6040 Resina de Troca de Íons H/OH de Leito MistoÉ uma resina de desionização de leito misto de qualidade superior concebida para aplicações de polimento final em sistemas de tratamento de água ultrapura (UPW).Combinação de resina catiónica ácida forte de alta capacidade na forma H+ e resina aniônica base forte na forma OH−, esta resina de leito misto totalmente regenerada proporciona um desempenho de remoção iónica excepcional e ajuda a alcançar uma qualidade da água de ultra-alta resistividade.
Projetado para indústrias exigentes que exigem água extremamente limpa, o AmberTecTM UP6040 H/OH oferece desempenho de polimento estável com vazamento iónico muito baixo e liberação orgânica controlada.É amplamente aplicado na fabricação de semicondutores, produção fotovoltaica, sistemas de água farmacêuticos, purificação de laboratórios e instalações de geração de energia.
A resina é otimizada para uso após osmose reversa (RO), eletrodeionização (EDI) ou outros processos de deionização onde seja necessária uma melhoria final da qualidade da água.
Para a purificação em estágio final:
- Produz água de qualidade até:Resistividade de 18 MΩ·cm
- Fugas iônicas extremamente baixas
- Contribuição TOC baixa
- Adequado para aplicações críticas UPW
O sistema de resina combina:
- Forma iónica: H+
- Alta capacidade de troca
- Eliminação eficiente de íons carregados positivamente
- Forma iónica: OH−
- Forma de hidróxido de alta pureza
- Eliminação efetiva de íons com carga negativa
Juntos, proporcionam uma remoção contínua de íons e um desempenho de polimento de alta qualidade.
- Água de limpeza de wafer
- Água de processo ultrapura
- Fabricação de microeletrônicos
- Água de produção de alta pureza
- Processos de fabrico de células
- Sistemas de água purificada
- Água de laboratório de alta pureza
- Tratamento de águas de processo crítico
- Poluição de água de alimentação da caldeira
- Sistemas de água circulante de alta pureza
- Outros aparelhos de limpeza
- Sistemas de desionização de leitos embalados
- Cartuchos de resina substituíveis
- Sistemas portáteis de desionização por intercâmbio
- Ciclos de circulação de água de alta pureza
| Imóveis | Resina catiónica | Resina aniônica |
|---|---|---|
| Estrutura do polímero | Estireno-DVB | Estireno-DVB |
| Tipo de matriz | Gel | Gel |
| Grupo funcional | Ácido sulfónico | Trimetilamónio |
| Tipo de resina | Catião ácido forte | Anião de base forte tipo I |
| Forma iónica | H+ | Oh- |
| Capacidade de troca total | ≥ 2,00 eq/L | ≥ 1,10 eq/L |
| Capacidade de retenção de água | 45 a 51% | 54-60% |
| Conversão iónica | ≥ 99% H+ | ≥ 95% OH− |
| Parâmetro | Resina catiónica | Resina aniônica |
|---|---|---|
| Diâmetro da partícula | 525 ± 50 μm | 630 ± 50 μm |
| Coeficiente de uniformidade | ≤ 1.20 | ≤ 1.20 |
| Partículas finas | ≤ 0,1% (< 300 μm) | - Não. |
| Partículas grandes | ≤ 5,0% (> 850 μm) | - Não. |
| Parâmetro | Valor típico |
|---|---|
| UPW Resistência ao enxaguamento (10 min) | ≥ 18 MΩ·cm |
| Resistência ao sal (10 min.) | ≥ 18 MΩ·cm |
| ΔTOC após enxaguar | ≤ 3 ppb C |
| Parâmetro | Distância |
|---|---|
| Temperatura de funcionamento | 15-25°C |
| Intervalo de pH estável | 0-14 |
| Peso do transporte | Aproximadamente 710 g/l |
Cada lote de produção é avaliado através de rigorosos procedimentos de ensaio de qualidade, incluindo:
- Ensaios de resistividade com enxaguante
- Ensaios de desempenho do TOC
- Verificação do desempenho cinético
Isto garante uma qualidade de resina consistente para aplicações exigentes de água ultrapura.
Os produtos químicos fortemente oxidantes podem danificar os materiais de resina de troca de íons em determinadas condições.
Os utilizadores devem rever a documentação de segurança pertinente e seguir os procedimentos de manuseio recomendados para garantir um desempenho seguro e fiável da resina.
Com alta eficiência de troca, baixa liberação orgânica e excelente capacidade de polir,O AmberTecTM UP6040 H/OH fornece uma solução fiável para indústrias que necessitam de produção de água ultrapura estável e de alta qualidade.
